TRICHLOROETHYLAMIDE DERIVATIVES AS A NOVEL TYPE OF BRIGHTENING AGENT IN THE ELECTROCHEMICAL DEPOSITION OF NICKEL COATINGS
https://doi.org/DOI: http://dx.doi.org/10.21285/2227-2925-2018-8-1-106-114
Abstract
In this paper, we discuss the effect of adding trichloroethylamides of certain sulphonic and car-boxylic acids on the formation of bright coatings in electrochemical nickel plating using the standard Watts electrolyte. As a result, three out of the four compounds under study formed bright coatings, with one forming a semi-bright coating. The additives were introduced into the electro-lyte in an amount of 0.1-0.7 g / L. The current output was 78-97%. The porosity of the coatings obtained reached 0.28-11.02 pores/cm2, which is significantly lower than that obtained with other brighteners. The best brightness-forming effect among the additives studied was achieved with 1-hydroxy-2,2,2-trichloroethylamide of acetic acid and 1-4-methoxyphenyl-2,2,2-trichloroethylamide of 4-chloro-phenylsulphonic acid. The blocking effect of trichloroethylamides of sulphonic acids is associated with their electrochemical decomposition on the cathode, which contributes to the introduction of sulphur into the nickel coating in an amount of 0.3-0.4% by weight, thus determining the brightness. It is concluded that the action of trichloroethylamides of carboxylic acids is possibly related to their adsorption on the cathode surface.
About the Authors
N. G. SosnovskayaRussian Federation
A. O. Ivanova
Russian Federation
I. V. Nikitin
Russian Federation
G. N. Chernysheva
Russian Federation
I. A. Russavskaya
Russian Federation
И. Danchenko
Russian Federation
N. V. Istomina
Russian Federation
N. A. Korchevin
Russian Federation
References
1. Gamburg Yu.D., Zangary G. Theory and practice of metal electrodeposition. New York: Springer Sci-ence+Business Media, 2011. 438 p.
2. Истомина Н.В., Сосновская Н.Г., Полякова А.О. Блестящее никелирование: проблемы и перспективы // Вестник Ангарской государственной технической академии. 2014. N 8. С. 77-80.
3. Tripathy B.C., Singh P., Muir D.M., Das S.C. Effect of organic extractants on the electrocrystallization of nickel from aqueous sulphate solution // Journal of Applied Electrochemistry. 2001. V. 34. P. 301-308.
4. Ажогин Ф.Ф. Гальванотехника. Справочное издание. М.: Металлургия, 1987. 736 с.
5. Пат. N 2089675, Российская Федерация. МПК С25D3/12. Способ никелирования деталей из стали, меди и медных сплавов / В.И. Шевелкин, В.А. Власов, Ю.Б. Рыбальченко, О.Б. Шуляковский; заявитель и патентообладатель Шевелкин Валерий Иванович. Заявка N 96120975/02, заявл. 24.10.1996, опубликовано 10.09.1997, бюл. № 17.
6. Инженерная гальванотехника в приборостроении / Под ред. А.М. Гинберга. М.: Машиностроение, 1977. 512 с.
7. Моцкуте Д.В, Бернотене Г., Буткене Р. Поведение сахарина и его N-производных при электроосаждении металлов группы железа из кислых электролитов // Электрохимия. 1996. Т. 32, N 12. С. 1472-1476.
8. Jelinek T.W. Praktische galvanotechnic. Germany: Eugen Y. Leuze Verlag Publ., 2005.
9. p.
10. Скнар И.В., Скнар Ю.Е., Данилов Ф.И. Закономерности электроосаждения никелевых гальванопокрытий в присутствии некоторых серосодержащих органических добавок // Вопросы химии и химической технологии. 2008. N 4. С. 156-159.
11. Valles E., Pollina R., Gomes E/ Relation between the presence of inhibitors and deposit morphology in nickel deposition // Journal of Applied Electrochemistry. 1993. V. 23. P. 508-515.
12. Бигелис В.М., Карнута О.Я., Навалихин Л.В., Парманов Т.И., Артемова С.С., Рогаускайте Р. Исследование включений серы и кислорода в гальванических никелевых покрытиях // Электрохимия. 1994. Т. 30, N 1. С. 107-109
13. Пат N 2133305, Российская федерация. МПК С25D3/18. Электролит блестящего никелирования / Агеенко Н.С., Седойкин А.А., Поляков Н.А.; заявитель и патентообладатель Многопрофильный лицей N 84 (г. Новокузнецк). Заявка N 96104550/02, заявл. 23.02.1998, опубликовано 20.07.1999, бюл. N 14.
14. Таран Л.А., Кешнер Т.Д. Получение блестящих никелевых покрытий в присутствии 2-окси-4,6-диметилпиримидина // Журнал прикладной химии. 1983. Т. 56, N 7. С.1551-1554.
15. Кашик Т.В., Прокопьев Б.В., Атавин А.С., Мирскова А.Н., Альперт М.Л., Пилькевич С.Г., Пономарева С.М. Исследование диссоциирующей способности хлоральамидов карбоновых кислот в неводных средах // Журнал органической химии. 1971. Т. 7, вып. 8. С. 1582-1586.
16. Чернышева Г.Н., Никитин И.В., Розенцвейг И.Б. N-(2,2,2-Трихлорэтил) аренсульфонамиды в реакции N-сульфониламидирования галогензамещенных электрофилов // Журнал органической химии. 2017. Т. 53, вып. 6. С. 810-813.
17. Айзина Ю.А., Розенцвейг И.Б., Левковская Г.Г., Розенцвейг Г.Н., Мирскова А.Н. N-(2,2,2-Трихлорэтилиден) и N-(1-гидрокси-2,2,2-трихлорэтил)амиды в реакции С-амидоалкилирования функциональнозамещенных ароматических соединений // Журнал органической химии. 2002. Т. 38, вып. 2. С. 256-259.
18. Иванова А.О., Сосновская Н.Г., Никонова В.С., Леванова Е.П., Попов С.И. Использование добавок изотиурониевых солей в технологии блестящего электрохимического никелирования // Известия вузов. Прикладная химия и биотехнология. 2017. Т.7. N 4. С. 136-141.
Review
For citations:
Sosnovskaya N.G., Ivanova A.O., Nikitin I.V., Chernysheva G.N., Russavskaya I.A., Danchenko , Istomina N.V., Korchevin N.A. TRICHLOROETHYLAMIDE DERIVATIVES AS A NOVEL TYPE OF BRIGHTENING AGENT IN THE ELECTROCHEMICAL DEPOSITION OF NICKEL COATINGS. Proceedings of Universities. Applied Chemistry and Biotechnology. 2018;8(1):106-114. (In Russ.) https://doi.org/DOI: http://dx.doi.org/10.21285/2227-2925-2018-8-1-106-114
Views:
280
Email this article 